离子注入，是一种精确地向衬底中引进杂质的办法，这是一种在半导体制作中起到关键作用的技能，能够将绝缘体转变为具有导电性的半导体资料。
主要是经过掺杂工艺完成资料改性。经过离子注入，能够将外层电子数不同的杂质引进硅晶体中，然后改动硅的微观结构，完成导电性。
首先将所需的杂质电离，然后在电场中加快构成一个会集的离子束。这束离子随后打在硅片中，这些高能粒子进入晶格并与硅原子磕碰而失掉能量，终究在某个深度中止，使得离子穿透并嵌入到硅片中。
最常用的办法是经过向硅片中注入外层电子数为5的磷元素，得到N型硅片；向硅片中注入外层电子数为3的硼元素，得到P型硅片。
将n型和p型区域结合在一起，构成PN结。当衔接电源时，电子从n区域流向p区域，发生电流，此刻硅片就从绝缘体转变为半导体。
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包含在内)为自媒体渠道“网易号”用户上传并发布，本渠道仅供给信息存储服务。
起底闭店产业链背面的工作背债人：顶包变身新法定代表人，帮跑路老板缓兵之计
伊朗：若联合国将伊驻叙使馆遭袭肇事者依法从事，伊朗或不赏罚以色列；以军发言人：对伊朗或许发起的突击坚持高度警戒
OPPO A3 Pro已正式对外发布，比照OPPO A2 Pro，参数提高有多大？
上一篇: 新春走底层｜一天出售200吨！这家企业的宁波汤圆走俏
下一篇: 2022年质量月活动方案案例范本供参考！
